27 maja odbędzie się seminarium "SIMULIA Optimization Day", które organizujemy z Instytutem Podstaw Budowy Maszyn Politechniki Warszawskiej na Wydziale Samochodów i Maszyn Roboczych. 
Tematem seminarium będą zagadnienia dotyczące optymalizacji topologicznej i optymalizacji parametrycznej prowadzone za pomocą programów SIMULII (Dassault Systemes): Tosca i Isight. 
Uczestnicy seminarium będą mogli usłyszeć o tym, jakie korzyści w badaniach naukowych i rozwojowych w przemyśle oraz procesach projektowania i rozwoju produktów przynosi stosowanie nowoczesnych technik optymalizacyjnych w połączeniu z analizami MES.

W seminariach będą również omawiane najnowsze narzędzia SIMULII do symulacji procesów związanych z wytwarzaniem przyrostowym (additive manufacturing).

Miejsce seminarium: sala Multimedialna, ul. Narbutta 84

Program seminarium:
 
   9:00Powitanie i wprowadzenie
   9:15Optymalizacja SIMULII z Isight i Toscą: dwa rozwiązania - jeden cel
   9:30Omówienie technologii: Tosca Structure - optymalizacja topologiczna, dobór przekroi, optymalizacja kształtu, optymalizacja przetłoczeń blach
 10:45Przerwa
 11:15Przegląd technologii: Isight - automatyzacja procesów i optymalizacja parametryczna   
 13:00Najnowsze narzędzia SIMULII do symulacji procesów związanych z wytwarzaniem przyrostowym
(additive manufacturing)           
 14:00 Zakończenie

Uczestnictwo w seminarium jest bezpłatne. Ze względów organizacyjnych (ograniczona liczba miejsc) prosimy o wcześniejszą rejestrację.