27 maja odbędzie się seminarium "SIMULIA Optimization Day", które organizujemy z Instytutem Podstaw Budowy Maszyn Politechniki Warszawskiej na Wydziale Samochodów i Maszyn Roboczych. Tematem seminarium będą zagadnienia dotyczące optymalizacji topologicznej i optymalizacji parametrycznej prowadzone za pomocą programów SIMULII (Dassault Systemes): Tosca i Isight. Uczestnicy seminarium będą mogli usłyszeć o tym, jakie korzyści w badaniach naukowych i rozwojowych w przemyśle oraz procesach projektowania i rozwoju produktów przynosi stosowanie nowoczesnych technik optymalizacyjnych w połączeniu z analizami MES. W seminariach będą również omawiane najnowsze narzędzia SIMULII do symulacji procesów związanych z wytwarzaniem przyrostowym (additive manufacturing). Miejsce seminarium: sala Multimedialna, ul. Narbutta 84 Program seminarium:
Uczestnictwo w seminarium jest bezpłatne. Ze względów organizacyjnych (ograniczona liczba miejsc) prosimy o wcześniejszą rejestrację. |